2024-09-19
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光刻機(jī)按光源類型可分為五類:I-line光刻機(jī)、KrF光刻機(jī)、ArF光刻機(jī)、ArFi光刻機(jī)(即ArF浸沒式光刻機(jī),與ArF光刻機(jī)相比在曝光過程中在投影物鏡和晶圓之間放置了一層水膜)、EUV光刻機(jī)。按照應(yīng)用領(lǐng)域可分為IC前道光刻機(jī)和IC后道光刻機(jī)。其中,IC前道光刻機(jī)主要應(yīng)用于芯片制造,而后道光刻機(jī)主要用于芯片封裝。 隨著IC制程不斷向前推進(jìn),IC元件將更加復(fù)雜,光刻工藝平均所需的曝光層數(shù)不斷增多,這將驅(qū)動光刻機(jī)需求的增長。未來從7nm節(jié)點開始向下,EUV光刻機(jī)將逐漸被應(yīng)用在關(guān)鍵層曝光,銷售量
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