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老虎說(shuō)芯
老虎說(shuō)芯
“老虎說(shuō)芯”由北京大學(xué)微電子專(zhuān)業(yè)本碩,中國(guó)電源學(xué)會(huì)會(huì)員、在半導(dǎo)體行業(yè)有10多年經(jīng)驗(yàn)的胡獨(dú)巍先生撰寫(xiě),為大家提供半導(dǎo)體行業(yè)關(guān)于材料、工藝、應(yīng)用、市場(chǎng)、資訊等方面的內(nèi)容。在知乎有同名賬號(hào)。
FAE的職責(zé)、能力及職業(yè)規(guī)劃
  • 更新日期: 2025-04-27
  • 瀏覽次數(shù): 1080
一、什么是FAE? FAE的全稱(chēng)是“現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用工程師”(Field Application Engineer)。打個(gè)比方,如果IC設(shè)計(jì)工程師像是幕后工匠,埋頭研發(fā)芯片內(nèi)核的技術(shù)細(xì)節(jié),那么FAE更像是一線(xiàn)的“技術(shù)外交官”,負(fù)責(zé)把公司的芯片產(chǎn)品帶入客戶(hù)項(xiàng)目中,并負(fù)責(zé)各類(lèi)技術(shù)支持和溝通協(xié)調(diào)。 二、FAE核心職責(zé) ……
中芯國(guó)際(SMIC)的制程技術(shù)介紹
  • 更新日期: 2025-04-27
  • 瀏覽次數(shù): 1116
中芯國(guó)際是一家純晶圓代工廠(chǎng),向全球客戶(hù)提供8英寸和12英寸芯片代工與技術(shù)服務(wù)。 中芯國(guó)際除高端的制造能力之外,還為客戶(hù)提供全方位的晶圓代工解決方案,包括光罩制造、IP研發(fā)及后段輔助設(shè)計(jì)服務(wù)等一站式服務(wù)(包含凸塊加工服務(wù)、晶圓探測(cè),以及最終的封裝、測(cè)試等)。全面一體的晶圓代工解決方案,目標(biāo)是更有效的幫助客戶(hù)……
為什么說(shuō)芯片的定義再怎么強(qiáng)調(diào)都不為過(guò)?
  • 更新日期: 2025-04-27
  • 瀏覽次數(shù): 1144
我們可以把芯片設(shè)計(jì)比作“蓋房子”,芯片的規(guī)格定義書(shū)(spec參數(shù))就是“藍(lán)圖”。藍(lán)圖畫(huà)不清楚,后續(xù)施工再怎么努力都容易出問(wèn)題。 1、芯片設(shè)計(jì)的起點(diǎn)——確定方向 如果不清楚我們到底要造一顆什么樣的芯片,就像不知道要蓋的是別墅還是工廠(chǎng),那設(shè)計(jì)、資源投入、甚至團(tuán)隊(duì)協(xié)作都會(huì)南轅北轍。明確規(guī)格就是把方向定清楚,后續(xù)各……
為什么產(chǎn)品經(jīng)理對(duì)國(guó)產(chǎn)芯片公司極其重要?
  • 更新日期: 2025-04-27
  • 瀏覽次數(shù): 717
1. 產(chǎn)品經(jīng)理——公司“中樞神經(jīng)”,連接各系統(tǒng) 芯片公司好比一臺(tái)高精度的復(fù)雜機(jī)器,前端設(shè)計(jì)、工藝制造、市場(chǎng)銷(xiāo)售、客戶(hù)支持等各自如同機(jī)器的獨(dú)立模塊。但這些模塊單靠自身運(yùn)轉(zhuǎn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,必須有一個(gè)“中樞神經(jīng)系統(tǒng)”協(xié)調(diào)整體動(dòng)作。產(chǎn)品經(jīng)理就是這套“中樞神經(jīng)”,決定了‘大腦-手腳-感官-反饋’的高效聯(lián)動(dòng)。 2. 把握市場(chǎng)……
小米SU7汽車(chē)搭載哪些類(lèi)型的芯片?
  • 更新日期: 2025-04-14
  • 瀏覽次數(shù): 1280
小米SU7系列共有三款車(chē)型:SU7、SU7 Pro、SU7 Max。 SU7版:1顆Orin N芯片+純視覺(jué)方案(車(chē)外11個(gè)攝像頭)+1個(gè)毫米波雷達(dá),智駕功能相對(duì)基礎(chǔ)。 SU7 Pro版:……
中國(guó)對(duì)美國(guó)加征關(guān)稅對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的影響
  • 更新日期: 2025-04-14
  • 瀏覽次數(shù): 1634
美國(guó)與中國(guó)之間的貿(mào)易沖突自2018年開(kāi)始加劇。2025年4月2日,美國(guó)正式實(shí)施“對(duì)等關(guān)稅”,對(duì)所有進(jìn)口商品加征10%的關(guān)稅,并對(duì)中國(guó)商品加征額外的關(guān)稅。美國(guó)政府將這一政策作為旨在減少巨額商品貿(mào)易逆差、恢復(fù)制造業(yè)基礎(chǔ)并保護(hù)技術(shù)優(yōu)勢(shì)的回應(yīng)。 中國(guó)則在同一天宣布,依據(jù)相關(guān)法律,對(duì)美國(guó)進(jìn)口商品加征34%的關(guān)稅,以回應(yīng)美國(guó)……
如何看待中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)發(fā)展?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1075
在談及中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來(lái)發(fā)展時(shí),我們必須深刻理解這是一個(gè)典型的高技術(shù)壁壘和高資本投入的產(chǎn)業(yè),更是全球科技競(jìng)爭(zhēng)的戰(zhàn)略制高點(diǎn)。要想在這個(gè)極其復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)體系中取得突破,需要我們從以下幾個(gè)關(guān)鍵維度入手,方能真正穿越周期、實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期健康成長(zhǎng)。 一、準(zhǔn)確把握時(shí)代趨勢(shì),實(shí)現(xiàn)熵管理 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是數(shù)字化與AI時(shí)代的核心支撐?!?/div>
如何看待國(guó)產(chǎn)芯片行業(yè)的內(nèi)卷現(xiàn)狀?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1088
國(guó)內(nèi)芯片行業(yè)的內(nèi)卷現(xiàn)象,本質(zhì)上是資本過(guò)度競(jìng)爭(zhēng)、技術(shù)積累不足與戰(zhàn)略模糊的結(jié)果。要走出內(nèi)卷困境,芯片企業(yè)需要從戰(zhàn)略聚焦、技術(shù)突破、生態(tài)建設(shè)、運(yùn)營(yíng)優(yōu)化等多方面入手,秉持長(zhǎng)期主義,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)生態(tài)的完善和競(jìng)爭(zhēng)力的提升。同時(shí),要警惕短期機(jī)會(huì)主義,避免陷入“資本泡沫”,以穩(wěn)定且可持續(xù)的模式走向行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位。 1、國(guó)內(nèi)芯片行業(yè)的內(nèi)……
柵極(Gate)的基本原理、材料選擇和工藝方法
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1254
在晶體管世界里,如果將晶體管比作一個(gè)可控的“水龍頭”,那么柵極(Gate)就如同控制龍頭開(kāi)關(guān)的閥門(mén),其重要性不言而喻。隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入納米時(shí)代,柵極的材料與制造工藝不斷進(jìn)步,成為提升器件性能的關(guān)鍵之一。 柵極的技術(shù)背景與工作原理 晶體管中的柵極位于源極(Source)與漏極(Drain)之間,通過(guò)外加電壓……
光刻工藝中為什么正膠比負(fù)膠使用較多?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1004
在現(xiàn)代集成電路制造中,正光刻膠(Positive Photoresist)是絕對(duì)的主流選擇,尤其在先進(jìn)制程(如 28nm、16nm、7nm 及以下)中,絕大多數(shù)關(guān)鍵層都使用正光刻膠。 1. 分辨率與線(xiàn)寬控制 正膠的成像原理 ……
光刻工藝:光刻膠、曝光方式、光刻主要步驟
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1457
光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié),對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn),對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升,光刻技術(shù)也將不斷演化,支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計(jì)。 一、光刻在集成電路制造中的地位 在制造集成電路時(shí),常需反復(fù)多次“轉(zhuǎn)印”設(shè)計(jì)圖形到硅襯……
光刻工藝中g(shù)線(xiàn)、i線(xiàn)、DUV、EUV是什么意思?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數(shù): 1140
不同波長(zhǎng)的光源各自對(duì)應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和制造需求。從早期的 g線(xiàn)、i線(xiàn)到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV,每一次升級(jí)都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進(jìn)的工藝水平。隨著對(duì)器件尺寸不斷逼近物理極限,EUV及其后續(xù)升級(jí)版本將持續(xù)發(fā)展。 但需注意,EUV設(shè)備昂貴、維護(hù)復(fù)雜,加之掩模技術(shù)、襯底材料以及光刻膠等配套環(huán)節(jié)……

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